光刻机十年成果汇报在沪举行严隽琪发来贺信_新闻台

　　东方网4月8日消息：光刻机十年成果汇报暨上海微电子装备有限公司十年回顾活动，昨天在沪举行。全国人大常委会副委员长严隽琪发来贺信，全国政协常委、教科文卫委主任、原国家科技部部长徐冠华，科技部副部长曹健林，上海市委常委、常务副市长杨雄出席并讲话。

　　光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备，是集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体，各种尖端交叉技术融合的复杂大系统产物，它的研发过程及研发成果对集成电路产业和信息产业的发展具有极大的技术带动作用。

　　十年前，国家科技部“十五”重大科技专项100nm高端光刻机的研制任务落户上海，上海微电子装备有限公司(简称SMEE)肩负起为我国集成电路产业发展研制关键装备――光刻机的使命；十年后，0.31nm的中高端双频激光干涉测量系统研发完成，并应用于先进封装光刻机和OLED光刻机产品的配套，SMEE成为世界上继欧洲和日本3家光刻机公司之后的第4家掌握高端光刻机的系统设计与系统集成测试技术的公司。十年来，从跟踪国际专利，到不断掌握具有完全自主知识产权的高端光刻设备的总体设计技术、集成技术和关键单元技术，形成系列完整的产品，SMEE填补了国内光刻机在该领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平，大大缩短了我国半导体设备与国外技术差距。目前，SMEE已申请中国专利900多项，其中大部分为发明专利，是上海市专利工作和知识产权示范企业。

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