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上海光刻设备工程技术跻身世界一流

发布时间:2012年04月08日 05:28 | 进入复兴论坛 | 来源:新华网 | 手机看视频


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  新华网上海4月7日电(记者张建松)经过十年的自主创新,上海光刻设备工程技术跻身世界一流,成功打破国际垄断。7日,上海举办光刻机十年成果汇报暨上海微电子装备有限公司十年回顾活动。

  集成电路装备是集成电路产业价值链顶端的“皇冠”。其中,高端光刻机堪称“皇冠上的明珠”,集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体,是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备。我国“十五”、“十一五”、“十二五”发展规划中,高端光刻机被明确定义为重点制造装备,并被列入国家科技重大专项。

  2002年,科技部重大科技专项100纳米高端光刻机的研制落址上海。科技部和上海市政府商定,按现代企业制度建立上海微电子装备有限公司(SMEE)承担这项任务,并同步建设国家光刻设备工程技术研究中心和产品化基地。

  面对国内基础薄弱、资源匮乏、国外封锁严重的局面,上海微电子装备有限公司励精图治、自主创新,在全国相关单位配合支持下,不畏艰难刻苦攻关,于2007年自主设计、制造和集成了我国首台高端投影光刻机,成为世界上第四家掌握高端光刻机系统设计与系统集成测试技术的公司。目前,该设备已被上海集成电路研发中心采购使用。

  为整体提升国内半导体高端装备技术能级,形成光刻机系列产品的产业化能力基础,2009年,光刻机的持续发展被列入国家“科技重大专项”内容,上海微电子装备有限公司承担了其中难度最大的90纳米光刻机研制项目。按照合同任务书计划要求,目前已完成项目的初步设计、详细设计、零部件加工制造和部分关键分系统的验收,即将进入整机装配集成阶段。

  在承担国家项目过程中,上海微电子装备有限公司及时将掌握的关键技术应用于集成电路后道先进封装、OLED显示屏TFT电路制造、高精度温度控制系统、高精度激光干涉测量系统等领域,使国家科技重大专项的阶段成果及时发挥作用,产生良好的经济效益。

  上海微电子装备有限公司高度重视知识产权战略,自成立之初就组织力量分析研究竞争对手在相关领域的核心专利、布局态势、技术路线等,制定了相应的专利策略。截至目前,公司已申请中国专利900多项,其中申请发明专利735项,发明专利授权284项,申请国外发明专利30项,授权10项。

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